Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
匂坂 明人*; 永島 圭介; 山極 満; 的場 徹; 宅間 宏*
Journal of the Physical Society of Japan, 68(4), p.1221 - 1227, 1999/04
被引用回数:2 パーセンタイル:26.13(Physics, Multidisciplinary)高強度極短パルスレーザーを用いた光電界電離(OFI)による再結合型X線レーザーの場合、生成される電子のエネルギー分布は非マクスウェル分布となる。そのため、加熱機構を含む分布関数の時間変化を計算し、X線レーザーの反転分布生成に与える影響を定量的に評価する必要がある。本研究では、水素様ヘリウムに注目し利得の計算を行った。電子の分布関数については、電子-電子衝突による緩和過程を取り入れフォッカー・プランク方程式により計算した。この結果、緩和過程の影響が大きく、非マクスウェル性が抑制されてしまうことがわかった。しかしながら、入力レーザーのパルス幅を短くしていくことで(~10fs)最大12cmの利得を得られることが示され、X線レーザーの発振の可能性が期待される。